Crossbeam 350/550

Crossbeam 350/550

Rasterelektronenmikroskope FIB-SEM

In den CrossBeam Geräten von Zeiss wird eine Elektronensäule (SEM) mit einer Ionenstrahlsäule (FIB) kombiniert, um neben reiner Abbildung auch mit Gallium Ionen in die Tiefe schneiden zu können. Mittels Öffnen der Oberfläche gewinnen Sie Information aus der Tiefe in Nanometerauflösung! 

Durch eine automatisierte Abfolge von Schneiden und Bilderzeugung mit anschliessender Rekonstruktion werden dreidimensionale Tomographien erzeugt – eine hervorragende Methode nicht nur in der Biologie, sondern in einem breiten Spektrum von Anwendungen in der Materialforschung.
 
Mit dem ORION NanoFab geht Zeiss ganz neue Wege: anstelle von Elektronen werden Helium- oder Neon Ionen verwendet, um Oberflächen abzubilden oder zu bearbeiten. 

Wird das System mit einer zusätzlichen Gallium-Ionensäule ergänzt, entsteht ein einzigartiges Fabrikations- und Strukturierungstool. Durch den unglaublich feinen Ionenstrahl und der unterschiedlichen Interaktion mit der Probe sind verblüffende Resultate mit einer extremen Oberflächensensitivität erhältlich.

Rasterelektronenmikroskope mit fokussiertem Ionenstrahl oder kurz FIB-SEM von Carl Zeiss verbinden die 3D-Imaging- und Analysefähigkeiten der GEMINI Elektronensäule mit den Fähigkeiten eines FIB für die Materialverarbeitung und Probenpräparation im Nanomassstab. 

Beschleunigen Sie Ihre Tomografieabläufe: Verwenden Sie bis zu 100 nA FIB-Strom mit dem exzellenten Punktprofil, um die Lücke zwischen Mikro- und Nano-Patterning zu schliessen. 

Mit Crossbeam verbinden Sie die Imaging-und Analyseleistung der GEMINI-Elektronensäule mit der Materialverarbeitungs- und Probenpräparationsleistung eines FIB der nächsten Generation im Nanomaßstab. Verwenden Sie das modulare Plattformkonzept unserer FIB-SEM Mikroskope und die offene, leicht zugängliche Softwarearchitektur für durchsatzstarke Nanotomografie und Nanofabrikation für anspruchsvollste, leitfähige oder magnetische Proben.