Hochwertige Nanostrukturierung und Nanolithographie mittels Elektronenstrahllithographie
Hochwertige Nanostrukturierung und Nanolithographie mittels Elektronenstrahllithographie
Zeiss / REM Elektronenmikroskopie
Webinar Recording
Hochwertige Nanostrukturierung und Nanolithographie mittels Elektronenstrahllithographie
Dauer: 70 mins I Sprache: Englisch I Gebiet: Elektronenstrahllithographie
Sie erfahren mehr über:
- Einsatz der Elektronenstrahllithographie (EBL) zur direkten Strukturierung nanoskaliger Bauelemente und funktionaler Materialien
- Voraussetzungen für eine reproduzierbare und zuverlässige Nanolithographie mit Lösungen von ZEISS und RAITH
- Erweiterung von ZEISS Gemini FE-SEM- und Crossbeam-Systemen durch RAITH Upgrade-Kits
- Anwendungsbeispiele aus der Nanofabrikation und Materialforschung
Die Elektronenstrahllithographie (Electron Beam Lithography, EBL) ermöglicht die direkte Herstellung von Nanostrukturen mit hoher Präzision und Flexibilität. Sie wird in zahlreichen Forschungsbereichen eingesetzt, beispielsweise für die Entwicklung nanoskaliger Bauelemente, funktionaler Materialien und photonischer oder elektronischer Strukturen.
Im aufgezeichneten Webinar unseres Partners ZEISS werden die Möglichkeiten der Elektronenstrahllithographie sowie aktuelle Lösungen für zuverlässige und reproduzierbare Nanolithographie vorgestellt. Darüber hinaus wird gezeigt, wie sich ZEISS Gemini FE-SEM- und Crossbeam-Systeme mithilfe von RAITH Upgrade-Kits um EBL-Funktionalitäten erweitern lassen.
